Растровая графика в Photoshop CS8
Кроме того, перед обработкой критических...
Кроме того, перед обработкой критических областей следует провести пробные мазки и эксперименты с настройками.
В некоторых случаях скрыть стыковочные швы удается посредством аккуратной обработки инструментом Smudge (Палец). Обработка фильтрами размытия и внесение дозированного шума могут замаскировать или полностью удалить вторичные артефакты. Если клонирующие мазки отделены от основного изображения и находятся на отдельном слое, то пользователю предоставляется большая свобода з применении соответствующих фильтров.
Важно! Результативность операции клонирования зависит от множества факторов: опыта ретушера, наличия подходящего донорского материала, характера повреждений, настроек инструмента Clone Stamp и пр. Одним из важнейших условий правильного клонирования является выбор кисти и ее настройка. Если изображение отмечено массивными и глубокими повреждениями, то для его успешной реставрации часто приходится создавать новую кисть. В число настроек кистей входит параметр Spacing (Интервал). Он определяет частоту нанесения мазка, а значит, плотность красочного слоя, который оставляет за собой рисующая кисть. В процессе рисования довольно редко возникает необходимость в изменении этого параметра: только для решения специальных изобразительных задач. Для клонирующей кисти данный параметр является одним из важнейших. Небольшие значения интервала дают более равномерный и устойчивый мазок, но отчасти замедляют процедуру переноса графических данных из донорских фрагментов на поврежденную область.
